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            euv 文章

            單臺1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機

            • 據《連線》雜志報道,在美國康涅狄格州郊區的一間潔凈室中,ASML的工程師們正在為一臺單臺造價1.5億美元的新機器制造關鍵部件,該部件是新一代EUV系統的組成部分,會采用一些新技術來最大限度地減少其使用的光波長,包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。ASML的工程師正在裝配系統組件(圖片來自ASML)      要知道,當前的EUV機器已經像一輛公共汽車那么大,包含10萬個零部件和兩公里長的電纜,運輸這些組件需要40個貨運集裝箱、三架貨機和20輛卡車,能夠買得起這種設備的公
            • 關鍵字: ASML  EUV  光刻機  

            阿斯麥的新一代EUV光刻機:造價1.5億美元 公共汽車大小

            •   9月2日消息,荷蘭阿斯麥的新一代極紫外(EUV)光刻機每臺有公共汽車大小,造價1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來幾年繼續縮小?! ≡谖挥诿绹的腋裰萁紖^的一間大型潔凈室里,工程師們已經開始為一臺機器制造關鍵部件,這臺機器有望讓芯片制造行業沿著摩爾定律至少再走上10年時間?! ∵@臺極紫外光刻機是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺量產的極紫外光刻機,在芯片制造領域發揮著至關重要的作用,已經被用于制造iPhone手機芯片以及人工智能處理器等最先進的芯片。阿斯
            • 關鍵字: 阿斯麥  EUV  光刻機    

            美光確認EUV工藝DRAM 2024年量產:1γ節點導入

            • 三星、SK海力士及美光確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內存在2024年量產。芯研所8月21日消息,CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進入7nm之后,EUV光刻工藝不可或缺。目前內存停留在10nm工藝級別。三星、SK海力士及美光也確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內存在2024年量產。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認,美光已將EUV技術納入DRAM技術藍圖,將由10nm世代中的1γ(gamma)工藝節點開始導入。美光EUV工藝DRAM將會先在臺中A3廠生產,預
            • 關鍵字: 美光  EUV  DRAM  

            EUV技術開啟DRAM市場新賽程

            • SK海力士公司在7月12日表示,本月已經開始生產10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內存芯片生產中應用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產中應用EUV。根據SK海力士的說法,比起前一代規格的產品,第四代在一片晶圓上產出的DRAM數量增加了約25%,成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應給智能手機制造商,并且還將在2022年初開始生產的DDR5芯片中應用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發布聲明,正式啟用EUV光刻機閃存內存芯片,批量生產采用
            • 關鍵字: EUV  DRAM  

            為什么ASML加速來華?

            • 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關鍵設備光刻機的缺乏,更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發酵,讓我國半導體芯片領域的問題越加明顯,那就是在芯片制造的設備上,我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華?北大教授的發聲很現實,國產光刻機突破在即雖然華為研發出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對手刮目相看,但是沒有臺積電為其代工生產,沒有屬于中國自己的高端光刻機,就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業中芯國際,因為沒有高端光刻機,至今仍然沒
            • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

            三星有意在美國建5nm EUV芯片廠 巨額投資

            • 據韓媒援引業內人士消息,三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設立EUV半導體工廠,以滿足日益增長的小型芯片需求和美國重振半導體計劃。該工廠將采用5nm制程,計劃于今年Q3開工,2024年投產,預計耗資180億美元,同時也是三星電子首次在韓國之外設立EUV產線。去年,臺積電去宣布將在美國建設芯片工廠,建成之后將采用5nm工藝為相關的客戶代工芯片,目標是2024年投產。最新消息稱,臺積電管理層目前正在討論,他們在美國的下一座芯片工廠,是否采用更先進的3nm制程工藝,為相關的客戶代工芯片。
            • 關鍵字: 三星  5nm  EUV  芯片廠  

            阿斯麥已生產的極紫外光刻機 70%賣給了臺積電

            •   本周一,外媒援引韓國產業通商資源部一份有關半導體產業發展戰略文件報道稱,光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心時,外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進了阿斯麥生產的極紫外光刻機,但他們獲得的數量同臺積電相比,有不小的差距?! ⊥饷皆趫蟮乐刑岬?,阿斯麥目前已生產的極紫外光刻機,70%是賣給了臺積電,留給其他廠商的就只有30%?! “⑺果準悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機的廠商,他們已推出了TWIN
            • 關鍵字: 阿斯麥  極紫光刻機  EUV  臺積電    

            不用EUV光刻機就搞定類7nm工藝?中芯國際回應

            •   做為國內最大也是最先進的半導體制造公司,中芯國際在先進工藝上的進展引人關注,其中7nm及以下節點非常重要,這還牽涉到EUV光刻機?! ∪涨坝泄擅裨诨悠脚_上詢問,稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國際澄清?! Υ?,中芯國際表示,公司不針對傳言進行評論?! 闹行緡H官網的介紹來看,該公司提到的最先進工藝還是14nm,接下來的是N+1、N+2工藝,但沒有指明具體的工藝節點?! ≈行緡H聯合CEO趙海軍曾表示,經過三年的積累,FinFET工藝已經取得了不錯的成績,N+1已經
            • 關鍵字: EUV  光刻機  中芯國際  

            里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

            • 藍色巨人出手就是王炸?! ?月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片?! 『诵闹笜朔矫?,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬顆晶體管)為333.33,幾乎是臺積電5nm的兩倍,也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?! ?nm晶圓近照  換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內,就能容納500億顆晶體管?! ⊥瑫r,IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗?!   嶋H上,I
            • 關鍵字: IBM  2nm  EUV  

            ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

            •   近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了EUV光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機?!钡沁@一說法很快被ASML官方澄清,該協議與DUV光刻技術的現有協議相關?! 】赡芎芏嗑W友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實際上也是如此?! SML澄清與中
            • 關鍵字: 中芯國際  ASML  DUV  EUV    

            中國芯片業為什么搞不過一家荷蘭公司

            • 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機,中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?! ∮腥苏f阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司,這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機,是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機設備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻,廠商就要付給他們以小時計的美金?! ≡?,某上市公司的光刻機出問題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
            • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

            全球最大光刻機廠CEO:拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢

            • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示,即使總統換屆,兩國在包括光刻機在內的半導體領域,仍將出現進一步的對抗。也有人發表看法,發展芯片,開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統拜登的上任越來越近了?! ≡谶^去川普任職期內,中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹膲毫?,其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
            • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

            阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發貨

            • 14日訊,《科創板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產率,并改進機器匹配套準精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發貨。
            • 關鍵字: ASML  EUV  光刻機  

            在EUV光刻技術上,日本公司壟斷了光刻膠的供應

            • 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術,但是毫無疑問,這就是光刻技術的未來。與任何未來一樣,它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料,而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料,這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸,并使它們更加節能。這
            • 關鍵字: EUV  光刻膠  

            斥資440億元采購EUV光刻機?臺積電:不評論傳聞

            • 9月30日訊,此前有媒體報道,由于先進制程推進順利和訂單量擴大,臺積電將加大EUV光刻機的采購力度,預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱:公司不評論市場傳聞。據了解,一臺EUV光刻機售價近8億元,55臺EUV光刻機價值約440億元。相關閱讀:臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機:花費超440億元出處:快科技 作者:萬南芯片制程已經推進到了7nm以下,這其中最關鍵的核心設備就要數EUV光刻機了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。來自Digitimes的報道稱,臺積電打算在
            • 關鍵字: EUV  光刻機  臺積電  
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            euv介紹

            在半導體行業,EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。 極紫外光刻(英語:Extreme ultra-violet,也稱EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長的光刻技術。 EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。 根據瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高 [ 查看詳細 ]

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